کاربر عزیز خوش آمدید
آزمون لیتوگرافی نوری
اتاق تمیز میکرو/نانوفب ( Micro/nanofab Clean room )
آزمون لیتوگرافی نوری
فوتولیتوگرافی مد تماسی با حداقل اندازه مشخصه 1 میکرون و دارای فتورزیست‌های: su8 2010, shipley, nlof2020, Az Hs 1512 و دولوپرهای آن‌ها
دستگاه دستگاه تنظیم ماسک
برای ساخت و انداختن طرح و الگو رویبخش‌هایی از یک فیلم نازک یا سطح یک ویفر استفاده می‌شود که دارای سیستم نوردهی UV هم تراز و موازی آرایه‌ای و سیستم Motorized نیمه اتوماتیک می‌باشد.
امکان ماسک‌گذاری، الگواندازی و نوردهی فرابنفش زیرلایه و ماسک به صورت نیمه اتوماتیک با دقت یک میکرون، حرکت در محور XYZ،
استاندارد ETC 3010
استاندارد آزمون فوتولیتوگرافی ( Photolithography Test Standard )
نمونه اتاق تمیز ممز
پارامتر (ها)
1
خدمات لیتوگرافی ( Photolithography )
(ريال)
2
فوتولیتوگرافی قالب میکروفلوئیدیک ( Microfluidic Mold Photolithography )
(ريال)
3
PDMS چیپ میکروفلوئیدیک - به همراه ماده پخت ( Microfluidics chip pdms - Curing agent )
(ريال)
4
فتورزیست s1813 ( S1813 Photoresist )
(ريال)
5
دولوپر و محلول‌ها ( Developer & Solvents )
(ريال)
