آزمون لیتوگرافی نوری
اتاق تمیز ممز ( Mems Clean room )
آزمون لیتوگرافی نوری
-

دستگاه دستگاه تنظیم ماسک
سیستمی است که مدارهای مجتمع (IC) را با استفاده از فرآیند فوتولیتوگرافی تولید می کند. این ماسک نوری را روی ویفر سیلیکونی نگه میدارد در حالی که نور درخشانی از ماسک و روی فتوریست تابیده میشود.کاربرد اصلی این دستگاه در تولید نیمه هادیها و مدارهای مجتمع میباشد که برای ایجاد الگو برای ساخت مدارهای مجتمع، میکروچیپها و میکروسیستمهای الکترومکانیکی استفاده میشودکه ماده فوتورزیست در برابر نور فرابنفش با طول موج در محدوده 193 - 436 قرار میگیرد و الگوهای مورد نظر ایجاد میگردد.
امکان ماسکگذاری، الگواندازی و نوردهی فرابنفش زیرلایه و ماسک را دارد.
استاندارد ETC 3010
استاندارد آزمون فوتولیتوگرافی ( Photolithography Test Standard )
نمونه اتاق تمیز ممز
پارامتر (ها)
خدمات پایه ( Basic Services )
اطلاعات تماس
ایمیل اپراتور: afshinnasirimail@gmail.com
ساعت پاسخگویی به ایمیل: 8 الی 13