آزمون زدایش پلاسمای اکسیژن
اتاق تمیز میکرو/نانوفب ( Micro/nanofab Clean room )
آزمون زدایش پلاسمای اکسیژن
انجام خدمات زدایش سطح توسط پلاسمای اکسیژن
به منظور انجام فرآینده Etching از گاز اکسیژن استفاده میشود و حداکثر زمان کارکرد دستگاه 10 دقیقه خواهد بود.
![](/repository/file/2023/6/10/CleanroomO2Plasma.jpg.jpg)
دستگاه زدایش پلاسمای اکسیژن
قابلیت انجام پلاسمای اکسیژن جهت اصلاح سطح تا حداکثر مدت زمان 10 دقیقه را فراهم میکند که در آن ناخالصیها و آلودگیهای سطح نمونه با استفاده از ایجاد پلاسمای پر انرژی از ذرات گازی شکل زدوده میشوند.
امکان عملیات زدایش سطح با استفاده از پلاسما (plasma trearment) و گاز اکسیژن را فراهم مینماید که دارای فشار نهایی X10E – 2 torr با فشارسنج پیرانی، ولتاژ پالسی با توان بیشینه ۱۰۰ وات، محفظه استوانهای پیرکس با قطر 15cm، شیر سوزنی برای تنظیم مقدار گاز ورودی اکسیژن و سامانه کنترلی با مانیتور لمسی تمام رنگی است.
استاندارد .Int. Pro 3020
استاندارد زدایش پلاسما اکسیژن ( O2 Plasma Etching STD )
نمونه باید تمیز و عاری از هر گونه رطوبت باشد به همین منظور قبل از ارسال نمونه آن را در صورت امکان در ظرفی تمیز تحویل دهید.
نمونه اتاق تمیز ممز
پارامتر (ها)
زدایش سطح توسط گاز اکسیژن ( O2 Plasma Etching )