آزمون لایه نشانی کند و پاش فرکانس رادیویی RF
اتاق تمیز میکرو/نانوفب ( Micro/nanofab Clean room )
آزمون لایه نشانی کند و پاش فرکانس رادیویی RF
لایه نشانی ضخامت نانومتری
![](/repository/file/2023/6/10/clabSputtering.png.png.png)
دستگاه لایهنشانی کندوپاش
به منظور لایه نشانی روی زیرلایههای مختلف نظیر لام، سیلیکون و ... استفاده میشود. این دستگاه مجهز به یک پمپ روتاری و یک پمپ توربو به منظور خلاء محفظه میباشد که به فشار نهایی X10E – 6 torr خواهد رسید و دارای دو سورس لایه نشانی کند و پاش DC و کند و پاش RF است که ضخامت سنجی توسط یک کریستال ضخامت سنج انجام پذیر است.
امکان لایه نشانی نانومتری بر روی زیرلایههای متفاوت فراهم است.
استاندارد SOP 3016
استاندارد لایه نشانی کند و پاش RF ( RF Sputtering Deposition Standard )
نمونه اتاق تمیز ممز
پارامتر (ها)
ران دستگاه تا ضخامت 100nm ( RF Sputtering Run - 100nm )
ران دستگاه ضخامت بالاتر از 100nm ( RF Sputtering Run + 100nm )