کاربر عزیز خوش آمدید
آزمون لایه نشانی کند و پاش جریان مستقیم DC
اتاق تمیز میکرو/نانوفب ( Micro/nanofab Clean room )
آزمون لایه نشانی کند و پاش جریان مستقیم DC
لایه نشانی ضخامت نانومتری
دستگاه لایه‌نشانی کندوپاش
به منظور لایه نشانی روی زیرلایه‌های مختلف نظیر لام، سیلیکون و ... استفاده می‌شود. این دستگاه مجهز به یک پمپ روتاری و یک پمپ توربو به منظور خلاء محفظه می‌باشد که به فشار نهایی X10E – 6 torr خواهد رسید و دارای دو سورس لایه نشانی کند و پاش DC و کند و پاش RF است که ضخامت سنجی توسط یک کریستال ضخامت سنج انجام پذیر است.
امکان لایه نشانی نانومتری بر روی زیرلایه‌های متفاوت فراهم است.
استاندارد SOP 3017
استاندارد لایه نشانی کند و پاش DC ( Sputtering DC Standard )
نمونه اتاق تمیز ممز
پارامتر (ها)
1
ران دستگاه برای لایه‌نشانی تا 100 نانومتر ( Sputtering Run - 100nm )
(ريال)
2
ران دستگاه برای لایه‌نشانی بیشتر از 100 نانومتر ( Sputtering Run + 100nm )
(ريال)
